EUV露光機は28nm以下プロセッサーを製造するのに不可欠な重要設備である。EUVとはExtreme Ultra-violet の略語で、13.5nmの極端紫外線を利用して、高精密露光装置である。
EUV露光機の製造メーカー大手のASMLが世界市場の65%を占めている。世界2位と3位が日本のニコンとキャノンになる。ASML製のEUV露光機の販売値段は1.54億ユーロ/台で、世界一高い製造設備になっている。
ASML（ASML Holding N.V.）は、オランダ南部・フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。半導体露光装置を販売する世界最大の会社で、16ヶ国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80%以上がASMLの顧客である。
EUV露光機の製造は難しい？
ASMLの社長はこう言った。「EUV露光機の図面を中国に渡しても、中国は作れない」
小米科技の創業者の雷軍氏もこういった。「プロセッサーの製造は本当に難しい」
レンズ（ミラー）の製造が難しい
10枚以上の約直径30㎝のレンズとミラーで極端紫外線反射システムを構成しているが、レンズとミラーの加工許容誤差範囲が極端に厳しい。その誤差範囲がレンズをドイツの国土の面積まで拡大しても、表面の凹凸の誤差が1㎝以下に収まらないといけない。このレンズとミラーはドイツのカール・チャイス（Carl Zeiss）制であり、ASMLへ独占供給している。チャイス制のレンズは100年以上のレンズ研磨技術の傑作である。
温度の制御が難しい
露光中の温度制御要求が厳しく、目標温度に対して、許容誤差範囲は±0.001℃である。（露光中機内は真空状態らしいが、温度に対する厳しい要求の理由は筆者は把握できていない）
30年間研究を重ねて、上記課題をクリアしたASMLが、EUV露光機の世界シェアを独占したのも、当該企業の努力の結晶である。